• Osstem Implant®

    Osstem Implant®-TSIII

    M Ø3.5R Ø4.0

gewinkelte CoCr Base compatible with Osstem Implant®-TSIII

Description

Abgewinkeltes gießbares Abutment mit maschinell bearbeiteter Co-Cr-Basis zum Gießen.

Reusable

No

  Reference Configuration Platform
IPD/OB-BN-10EngagingM Ø3.5
IPD/OB-BN-11Non-engagingM Ø3.5
IPD/OB-BR-10EngagingR Ø4.0
IPD/OB-BR-11Non-engagingR Ø4.0