• Dio®

    Dio® -UFII

    NP (N)

gewinkelte CoCr Base compatible with Dio® -UFII

Description

Abgewinkeltes gießbares Abutment mit maschinell bearbeiteter Co-Cr-Basis zum Gießen.

Reusable

No

  Reference Configuration Platform
IPD/UB-BN-10EngagingEngagingNP (N)NP (N)
IPD/UB-BN-11