gewinkelte CoCr Base compatible with Dio® -UFII

IPD/UB-BN-10

Description

Abgewinkeltes gießbares Abutment mit maschinell bearbeiteter Co-Cr-Basis zum Gießen.

Reusable

	Reference	Configuration	Platform
	IPD/UB-BN-10	Engaging	Engaging	NP	NP
	IPD/UB-BN-11

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